振動對高級浸沒式光刻的影響
沒有使用STACIS®
在原基座的彈性體或剛性版本上獲得jia模式
使用STACIS®
STACIS主動隔振實現(xiàn)的模式
所示的45納米線寬測試圖形是由Amphibian Systems公司生產(chǎn)的*浸入式光刻系統(tǒng)生產(chǎn)的，安裝在德克薩斯州*的SEMATECH公司。圖像之間的差異是由于地震振動對光刻過程的影響。所顯示的圖像是使用掃描電子顯微鏡獲得的。
該工具初安裝在鋼和混凝土基座上，基座采用鋼支撐結構，其中包含商業(yè)彈性體隔振墊。這個基座沒有達到工具要求的振動標準，模式質(zhì)量很差。
為了減少振動，彈性體墊塊被有效地用金屬墊片短路，從而導致更剛性、非共振結構，但這幾乎沒有改善。振動標準不符合任何版本的基座和模式，質(zhì)量仍然很差。
基座支撐結構被移除，并安裝了STACIS®主動壓電消振系統(tǒng)。STACIS基座被直接放置在現(xiàn)有的底座下面。將工具支撐在STACIS上，顯著降低了整體地震振動水平，并達到了制造商的地面振動規(guī)范。更重要的是，STACIS在模式質(zhì)量方面提供了顯著的改進。
不同配置的振動測量。工具規(guī)格:0.125 mils /s RMS。垂直軸數(shù)據(jù)顯示。
綠色：彈性體減振
白色：短路彈性體減振
藍色：STACIS減振
*由Sematech提供的照片、圖像和振動數(shù)據(jù)。
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